לוח אלומיניום אנודייז

1, העיקרון הכללי של ייצור סרט תחמוצת צלחת אלומיניום אנודייז:

צלחת אלומיניום כמו האנודה להציב פתרון אלקטרוליט, השימוש בפעולה אלקטרוליטית, כך פני השטח של היווצרות של תהליך תחמוצת אלומיניום סרט, הנקרא אנודיזציה של צלחת אלומיניום. הקתודה של המכשיר היא חומר בעל יציבות כימית גבוהה בתמיסה האלקטרוליטית, כגון עופרת, נירוסטה, אלומיניום ועוד. עקרון האנודיזציה של אלומיניום הוא בעצם עקרון אלקטרוליזה במים. כאשר עובר זרם חשמלי, גז מימן משתחרר על הקתודה; על האנודה, החמצן המושקע הוא לא רק חמצן מולקולרי, אלא גם חמצן אטומי (O) וחמצן יוני, המתבטאים בדרך כלל כחמצן מולקולרי בתגובה. האלומיניום כאנודה מתחמצן על ידי החמצן המושקע בו ליצירת סרט אלומינה נטול מים, והחמצן הנוצר אינו כולו מהפעולה עם אלומיניום, וחלקו מושקע בצורה של מצב גז.

2, בחירת פתרון אלקטרוליטי לחמצון צלחת אלומיניום אנודייז:

תנאי מוקדם לצמיחת סרט תחמוצת אנודי הוא שהאלקטרוליט ימיס את סרט התחמוצת. עם זאת, זה לא אומר שהאילגון יכול ליצור סרטי תחמוצת או שסרטי התחמוצת המתקבלים זהים בכל האלקטרוליטים המומסים.

3, סוגי חמצון של לוחות אלומיניום אנודייז:

אילגון מחולק לאלגון זרם ישר, אילגון זרם חילופין ואנודיז זרם דופק לפי צורת הזרם. על פי האלקטרוליט ניתן לחלק אותו לחומצה גופרתית, חומצה אוקסלית, חומצה כרומית, חומצה מעורבת ואנודיז צבעוני טבעי עם חומצה אורגנית סולפונית כפתרון העיקרי. על פי שכבת הסרט, ניתן לחלק אותו ל: סרט רגיל, סרט קשיח (סרט עבה), סרט פורצלן, שכבת שינוי בהירה, שכבת מחסום מוליכים למחצה ואנודיז אחר. שיטות אנודיז ותנאי תהליך נפוצים עבור אלומיניום וסגסוגות אלומיניום מוצגים בטבלה -5. היישום של אנודיזציה של חומצה גופרתית בזרם ישר הוא הנפוץ ביותר.

4, מבנה סרט תחמוצת צלחת אלומיניום אנודייז, מאפיינים:

סרט התחמוצת האנודי מורכב משתי שכבות, שכבה חיצונית נקבובית ועבה הצומחת על גבי שכבה פנימית צפופה בעלת תכונות דיאלקטריות, הנקראת שכבת המחסום (הידועה גם בשם השכבה הפעילה). במיקרוסקופ אלקטרוני, המשטחים האנכיים והאופקיים של הסרט כמעט כולם מראים חורים צינוריים בניצב למשטח המתכת, החודרים דרך השכבה החיצונית של הסרט עד לשכבת המחסום בין סרט התחמוצת לממשק המתכת. סביב כל נקבובית כציר הראשי מצויה אלומינה צפופה ליצירת גוף משושה חלת דבש, הנקרא התא, שכבת הסרט כולו מורכבת מאינספור תאים כאלה. שכבת המחסום מורכבת מתחמוצת אלומיניום נטול מים, דקה וצפופה, בעלת קשיות גבוהה ומונעת מעבר זרם. עובי שכבת המחסום הוא בערך 0.03-0.05 מיקרומטר, שהם 0.5% עד 2.0% מכלל הממברנה. השכבה החיצונית הנקבוביה של סרט התחמוצת מורכבת בעיקר מאלומינה אמורפית וכמות קטנה של אלומינה לחות, בנוסף להכיל קטיונים אלקטרוליטים. כאשר האלקטרוליט הוא חומצה גופרתית, תכולת הסולפט בשכבת הסרט היא 13%-17% בנסיבות רגילות. רוב המאפיינים המצוינים של סרט התחמוצת נקבעים על ידי העובי והנקבוביות של השכבה החיצונית הנקבוביה, הקשורים קשר הדוק לרצועת האנודייז.